Efeito do substrato em transistores SOI de camada de silício e óxido enterrado ultrafinos.
Este trabalho apresenta um estudo do efeito do substrato em transistores SOI de camada de silício e óxido enterrado ultrafinos (Ultra Thin Body and Buried Oxide - UTBB). A análise do trabalho foi realizada baseando-se em modelos teóricos, simulações numéricas e medidas experimentais. Experimentalmen...
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| Format: | Others |
| Language: | pt |
| Published: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
2014
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-25112014-113910/ |