Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada.

Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada.

O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito de p...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Catelli, Ricardo Tardelli
Other Authors: Seabra, Antonio Carlos
Format: Others
Language:pt
Published: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP 2010
Subjects:
Efeito de proximidade
Electron beam lithography
Elementos microópticos
Integrated optics
Litografia 3D
Litografia por feixe de elétrons
Microoptical elements
Óptica integrada
Proximity effect
Resiste SU-8
SU-8 resist
Three-dimensional lithography
Online Access:http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/

Internet

http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/

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