Deposição e caracterização de filmes finos de CrN depositados por diferentes processos de magnetron sputtering
O PVD (Physical Vapor Deposition- Deposição física na fase de vapor) é um meio utilizado para a produção de recobrimentos e empregado em grande escala industrial. É um processo de deposição atômica no qual o material é vaporizado de alvo sólido por sputtering e posteriormente condensado sobre a peça...
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| Format: | Others |
| Language: | pt |
| Published: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
2017
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/18/18158/tde-17112017-104317/ |