Filtros interferenciais construídos com dielétricos depositados pela técnica de PECVD.

Filtros interferenciais construídos com dielétricos depositados pela técnica de PECVD.

Neste trabalho é apresentada a simulação, fabricação e caracterização de filtros interferenciais empregando películas dielétricas amorfas depositadas pela técnica de deposição a vapor assistida por plasma (PECVD) sobre substratos de silício e de Corning Glass (7059). Os dispositivos ópticos foram co...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Martins, Gustavo da Silva Pires
Other Authors: Alayo Chávez, Marco Isaías
Format: Others
Language:pt
Published: Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP 2008
Subjects:
Deposição química a vapor assistida por plasma
Filtros interferenciais
Filtros multicamada
Filtros ópticos
Integrated optics.
Interferential filters
Multilayer filters
Óptica integrada.
Optical filters
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Online Access:http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-215318/

Internet

http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-11082008-215318/

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