Προσομοίωση ηλεκτρομαγνητικής συμπεριφοράς σε αντιδραστήρες αερίων χαμηλής πίεσης και ασθενούς ιονισμού
Οι πηγές πλάσματος επαγωγικής ζεύξης (Inductively Coupled Plasma Sources – ICP’s), παρέχουν πλάσμα υψηλής πυκνότητας ηλεκτρονίων σε χαμηλή πίεση και έχουν ευρεία εφαρμογή στη σύγχρονη βιομηχανία ημιαγωγών και την κατεργασία επιφανειών. Σε πολύ χαμηλές πιέσεις, (~mTorr), οι εκκενώσεις πλάσματος παρου...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Language: | gr |
| Published: |
2010
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://nemertes.lis.upatras.gr/jspui/handle/10889/2916 |