Diagnostics spectroscopiques de plasmas RF en régime de pulvérisation physique et en présence de générations successives de poussières dans les chimies organosiliciées

Diagnostics spectroscopiques de plasmas RF en régime de pulvérisation physique et en présence de générations successives de poussières dans les chimies organosiliciées

Bibliographic Details
Main Author: Garofano, Vincent
Other Authors: Stafford, Luc
Published: 2019
Subjects:
Pulvérisation physique
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma
Plasmas poudreux
Diagnostics électriques et spectroscopiques des plasmas
Physical sputtering
Plasma enhanced chemical vapor deposition
Dusty plasmas
Electrical and spectroscopic plasmas diagnostics
Physics - Fluid and Plasma / Physique - Fluides et plasma (UMI : 0759)
Online Access:http://hdl.handle.net/1866/21759
https://orcid.org/0000-0001-7689-2306

Internet

http://hdl.handle.net/1866/21759
https://orcid.org/0000-0001-7689-2306

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