Analytik von Novolak-Epoxidharzen für die Resistentwicklung in der Mikrosystemtechnik
Novolak-Epoxidharze, die zur Herstellung von Negativ-Photoresisten für die Materialstrukturierung mittels Lithographie verwendet werden, weisen aufgrund der verwendeten Syntheseverfahren eine breite Molekulargewichts- und Funktionalitätsverteilung auf. Diese erhebliche molekulare Heterogenität beein...
| Main Author: | |
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| Format: | Others |
| Language: | German de |
| Published: |
2010
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| Online Access: | https://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/2361/1/Dissertation_SawaNordt.pdf Nordt, Sawa <http://tuprints.ulb.tu-darmstadt.de/view/person/Nordt=3ASawa=3A=3A.html> (2010): Analytik von Novolak-Epoxidharzen für die Resistentwicklung in der Mikrosystemtechnik.Technische Universität, [Ph.D. Thesis] |