Innovative contact technology for CMOS FDSOI 10 nm and below
Alors que nous approchons des nœuds technologiques ultimes dans le domaine de la logique numérique, la réduction de leurs dimensions est d’avantage impactée sur la longueur de leurs contacts plutôt que sur leur grille. Dès lors, il apparait nécessaire de réduire significativement la résistivité de c...
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| Language: | en |
| Published: |
2017
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2017LIL10017/document |