Lithographie directe à faisceaux d’électrons multiples pour les nœuds technologiques sub-20nm
Depuis de nombreuses années, l'industrie microélectronique s'est engagée dans une course à l'augmentation des performances et à la diminution des coûts de ses dispositifs grâce à la miniaturisation de ces derniers. La génération de ces structures de petites dimensions repose essentiel...
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| Language: | fr |
| Published: |
2015
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2015GREAT086/document |