Modélisation du lissage de défauts sur les optiques asphériques de photolithographie : approche par éléments discrets
Dans la fabrication de lentilles asphériques pour la photolithographie, l’étape delissage est critique. C’est aujourd’hui le seul procédé qui peut corriger les défauts de hautesfréquences spatiales responsables de diffusions parasites, de diminutions de transmittance etde contraste. Cette opération...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Language: | fr |
| Published: |
2013
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2013ENAM0023/document |