Relation microstructure et propriété mécanique des films de ZrO2 obtenus par MOCVD

Relation microstructure et propriété mécanique des films de ZrO2 obtenus par MOCVD

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Les films de ZrO2 pur sont déposés par MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) en variant de nombreux paramètres du processus. L’influence des conditions de dépôt sur l’évolution de la microstructure (morphologies, structure cristalline/phase, texture et contrainte résiduelle) a été étudiée...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Chen, Zhe
Other Authors: Paris 11
Language:fr
Published: 2011
Subjects:
Zircone
MOCVD
Couches minces
Contrainte résiduelle
Gradient de contrainte
Structure cristalline/phase
Texture
GIXRD
Mécanismes de croissance
Phase transformation
Phase stabilization
Zirconia
Thin films
Residual stress
Stress gradient
Crystal structure / phase
Growth mechanisms
Tetragonal phase stabilization
Online Access:http://www.theses.fr/2011PA112145/document

Internet

http://www.theses.fr/2011PA112145/document

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