Si-ULSIデバイス用Cu配線の低抵抗化と信頼性向上

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Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・課程博士 === 博士(工学) === 甲第16798号 === 工博第3519号 === 新制||工||1532(附属図書館) === 29473 === 京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 === (主査)教授 白井 泰治, 教授 酒井 明, 教授 杉村 博之 === 学位規則第4条第1項該当...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: 小濱, 和之
Other Authors: 白井, 泰治
Format: Others
Language:Japanese
Published: 京都大学 (Kyoto University) 2012
Subjects:
Cu(Ti)
合金
自己形成
拡散バリア
薄膜
粒成長
双晶
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/157529
Description
Summary:Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・課程博士 === 博士(工学) === 甲第16798号 === 工博第3519号 === 新制||工||1532(附属図書館) === 29473 === 京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 === (主査)教授 白井 泰治, 教授 酒井 明, 教授 杉村 博之 === 学位規則第4条第1項該当

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