シンクロトロン放射光励起による窒化シリコン薄膜CVDの研究

シンクロトロン放射光励起による窒化シリコン薄膜CVDの研究

Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・論文博士 === 博士(工学) === 乙第10452号 === 論工博第3528号 === 新制||工||1187(附属図書館) === UT51-2000-J64 === (主査)教授 松波 弘之, 教授 藤田 茂夫, 教授 橘 邦英 === 学位規則第4条第2項該当

Bibliographic Details
Main Author: 久良木, 億
Other Authors: 松波, 弘之
Format: Others
Language:Japanese
Published: 京都大学 2011
Subjects:
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/151515
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spelling ndltd-kyoto-u.ac.jp-oai-repository.kulib.kyoto-u.ac.jp-2433-1515152017-09-02T03:53:29Z シンクロトロン放射光励起による窒化シリコン薄膜CVDの研究 久良木, 億 松波, 弘之 藤田, 茂夫 橘, 邦英 Kyuragi, Hakaru キュウラギ, ハカル 500 Kyoto University (京都大学) 0048 新制・論文博士 博士(工学) 乙第10452号 論工博第3528号 新制||工||1187(附属図書館) UT51-2000-J64 (主査)教授 松波 弘之, 教授 藤田 茂夫, 教授 橘 邦英 学位規則第4条第2項該当 2011-12-06T01:42:00Z 2011-12-06T01:42:00Z 2000-05-23 2000-05-23 DAM Thesis or Dissertation http://hdl.handle.net/2433/151515 000000355266 jpn application/pdf 京都大学 Kyoto University
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久良木, 億
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