負イオン注入法によるシリコン熱酸化膜中のナノ粒子形成

Kyoto University (京都大学) === 0048 === 新制・課程博士 === 博士(工学) === 甲第13826号 === 工博第2930号 === 新制||工||1433(附属図書館) === UT51-2008-C742 === 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 === (主査)教授 石川 順三, 教授 髙岡 義寛, 教授 川上 養一 === 学位規則第4条第1項該当...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: 洗, 暢俊
Other Authors: 石川, 順三
Format: Others
Language:Japanese
Published: 京都大学 (Kyoto University) 2011
Subjects:
500
Online Access:http://hdl.handle.net/2433/136296