Otimização do processo de deposição de filmes de óxido de cobalto usando magnetron sputtering reativo /
Orientador: José Humberto Dias Da Silva === Banca: Marcio Medeiros Soares === Banca: Antonio Ricardo Zanatta === Banca:José Roberto Ribeiro Bortoleto === Banca: Andre Luis de Jesus Pereira === Resumo: A motivação para este trabalho foi buscar uma melhor compreensão sobre o processo de crescimento do...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese Portuguese Texto em português; resumos em português e inglês |
| Published: |
Bauru,
2018
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://hdl.handle.net/11449/158325 |