The Mechanical Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Deposited by Magnetron Sputtering
碩士 === 國立清華大學 === 工程與系統科學系 === 98 === 本實驗利用非平衡磁控濺鍍系統(UBMS)，於P 型(100)矽晶片上改變鍍膜時間以 製備鈦-矽-氮薄膜。此篇論文的目的為研究不同厚度下鈦-矽-氮薄膜的機械性質，特 別著重在殘留應力和硬度的部份，並且製備高硬度與高厚度的鈦-矽-氮薄膜以適合工 業應用。薄膜厚度隨著鍍膜時間的增加而上升，從281 nm 上升至 2044 nm。結構上藉 由X 光繞射 (XRD) 的測定得知，氮化鈦的優選方向為(111)方向或是(200)方向是取決 於厚度。而藉由X 光光電子儀 (XPS) 的測定得知在此複合材料裡有氮化矽的鍵結存 在。因此，...
| Main Authors: | , |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | en_US |
| Published: |
2009
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| Online Access: | http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/90334273736064813076 |