利用磁控濺鍍法於軟性基材上製備含鋯介層之氮化鋯阻氣薄膜
碩士 === 國立清華大學 === 工程與系統科學系 === 98 === 本研究之主要目的係將氮化鋯/鋯介層之雙層結構鍍著在軟性聚對苯二甲酸乙二酯 基材上，並使其具備良好的阻水氣性質、低片電阻以及優異的附著性。實驗證實利用磁 控濺鍍技術可成功地將氮化鋯/鋯介層鍍著於聚對苯二甲酸乙二酯基板上。在本研究中分 別選擇氮化鋯薄膜及鋯介層之鍍著時間作為實驗設計變數以探討氮化鋯薄膜及鋯介層 之厚度對於薄膜相關性質之影響。討論中針對薄膜在不同溫度下的水氣穿透速率、激發 能、片電阻、附著性以及光學性質作有系統性的探討。由實驗結果得知鋯薄膜、氮化鋯 薄膜以及氮化鋯/鋯介層雙層結構對於聚對苯二甲酸乙二酯基材之附...
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | en_US |
| Online Access: | http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/80802058035269843835 |