A direct approach to the modeling and simulation of contrast enhancement materials in microlithography
碩士 === 國立交通大學 === 應用化學研究所 === 78 === 1982年, Griffing及West首先發展出對比加強光學成像製程 (Contrast enhancenent photolithographic process) , 以非線性光漂白薄膜塗佈在傳統的光阻劑上, 可改 善窗間影像 (aerial image) 之對比(Contrast), 顯影後得到側壁輪廓垂直之阻劑圖 案。國外研究對比加強製程皆使用Dill模式參數A...
| Main Authors: | , |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | zh-TW |
| Published: |
1990
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| Online Access: | http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/34626626255572773629 |