以高頻電容電壓法分析氧離子佈植對二氧化矽與矽之界面能階密度的影響

碩士 === 國立清華大學 === 電機工程研究所 === 77 ===

Bibliographic Details
Main Authors: CHEN, TIAN-LONG, 陳天龍
Other Authors: GONG, ZHENG
Format: Others
Language:zh-TW
Published: 1989
Online Access:http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/61683412166634532034