電漿輔助化學氣相沈積法成長鎢與矽化鎢應用於VLSI閘極及連線

• Main Authors: YANG, HUI-MING, 楊徽明
• Other Authors: ZHANG, JUN-YAN
• Format: Others
• Language: zh-TW
• Online Access: http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/10296182415414664672

碩士 === 國立成功大學 === 電機工程研究所 === 73 ===