Surface passivation of crystalline silicon by amorphous silicon carbide films for photovoltaic applications
En aquesta tesi s'estudia la passivació del silici cristal·lí per a la producció de cèl·lules solars d'alta eficiència (> 20%) a baix preu.Actualment la indústria fotovoltaica empra capes de nitrur de silici crescut mitjançant la tècnica PECVD. Com a alternativa, es presenta el carbur d...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Format: | Doctoral Thesis |
| Language: | English |
| Published: |
Universitat Politècnica de Catalunya
2008
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://hdl.handle.net/10803/6350 http://nbn-resolving.de/urn:isbn:9788469141199 |