Formação de nanopadrões em superfícies por sputtering iônico: Estudo numérico da equação anisotrópica amortecida de Kuramoto-Sivashinsky.
Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior === Apresenta-se uma abordagemnumérica para ummodelo que descreve a formação de padrões por sputtering iônico na superfície de ummaterial. Esse processo é responsável pela formação de padrões inesperadamente organizados, como ondulações, na...
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| Format: | Others |
| Language: | English |
| Published: |
Universidade do Estado do Rio de Janeiro
2015
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.bdtd.uerj.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=9215 http://www.bdtd.uerj.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=9216 http://www.bdtd.uerj.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=9217 http://www.bdtd.uerj.br/tde_busca/arquivo.php?codArquivo=9218 |