Estabilização de filmes finos de óxido de germânio por incorporação de nitrogênio visando aplicações em nanoeletrônica

Estabilização de filmes finos de óxido de germânio por incorporação de nitrogênio visando aplicações em nanoeletrônica

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Full description

Bibliographic Details
Main Author: Kaufmann, Ivan Rodrigo
Other Authors: Soares, Gabriel Vieira
Format: Others
Language:Portuguese
Published: 2013
Subjects:
Microeletrônica
Filmes finos
Estabilidade térmica
Dispositivos semicondutores
Recozimento
Germânio
Nitrogenio
Feixes de íons
Análise por reação nuclear
Espectrometria de retroespalhamento rutherford
Germanium
Germanium dioxide
Thermal grown
Oxinitridation
RBS
NRA
NRP
XPS
Thermal annealing
Online Access:http://hdl.handle.net/10183/83676

Internet

http://hdl.handle.net/10183/83676

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