Estudo da viabilidade de fabricação de dispositivos semicondutores baseados em filmes de carbeto de silício crescidos por PECVD.
Neste trabalho é estudada a viabilidade de produção de dispositivos eletrônicos baseados em filmes semicondutores de carbeto de silício estequiométrico (a-Si0,5C0,5:H) obtidos por deposição química por vapor assistida por plasma, PECVD. A proposta do projeto envolve a realização de uma série de...
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Language: | Portuguese |
Published: |
Universidade de São Paulo
2006
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Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08122006-142624/ |