Estudo da deposição química de cobalto em superfícies de silício pré-ativadas por paládio.

Estudo da deposição química de cobalto em superfícies de silício pré-ativadas por paládio.

Neste trabalho investigamos a deposição química de filmes finos de cobalto sobre superfícies de lâminas de silício, tipo P (100), previamente ativadas com paládio e estudamos alguns mecanismos químicos envolvidos no processo de deposição química de filmes finos de cobalto. Os filmes de cobalto f...

Full description

Bibliographic Details
Main Author:	Alexandre Ichiro Hashimoto
Other Authors:	Sebastião Gomes dos Santos Filho
Language:	Portuguese
Published:	Universidade de São Paulo 2008
Subjects:	Cobalto Deposição química Eletroquímica Paládio Silício Superfícies Chemical deposition Cobalt Palladium Silicon pre-activated by palladium Surface of silicon
Online Access:	http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-06112008-102206/

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