Estudo do processo de formação de nanopartículas de GeSi em matriz de sílica por técnicas de luz síncrotron

Estudo do processo de formação de nanopartículas de GeSi em matriz de sílica por técnicas de luz síncrotron

Orientadores: Gustavo de Medeiros Azevedo, Ângelo Malachias de Souza, Eduardo Granado Monteiro da Silva === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin === Made available in DSpace on 2018-08-19T08:06:03Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Gasperini_AntonioAugust...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Gasperini, Antonio Augusto Malfatti, 1982-
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 2011
Subjects:
Nanopartículas de silício-germânio
Raios X - Difração
Espalhamento de raios X em incidência rasante para pequeno ângulo (GISAXS)
Estrutura fina de absorção de raio X estendido (EXAFS)
Silicon germanium nanoparticles
X-rays - Diffraction
Grazing incidence small angle X-ray scattering
Extended X-ray absorption fine structure
Online Access:GASPERINI, Antonio Augusto Malfatti. Estudo do processo de formação de nanopartículas de GeSi em matriz de sílica por técnicas de luz síncrotron. 2011. 208 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277863>. Acesso em: 19 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277863

Internet

GASPERINI, Antonio Augusto Malfatti. Estudo do processo de formação de nanopartículas de GeSi em matriz de sílica por técnicas de luz síncrotron. 2011. 208 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277863>. Acesso em: 19 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277863

Similar Items