Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano

Orientador : Mauricio Prates de Campos Filho === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas === Made available in DSpace on 2018-07-17T23:15:01Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Gregolin_JoseAngeloRodrigues_M.pdf: 4032635 bytes, checksum: 0942f707bb430...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Gregolin, Jose Angelo Rodrigues
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1979
Subjects:
Silício - Propriedades elétricas
Silício - Reatividade
Online Access:GREGOLIN, Jose Angelo Rodrigues. Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano. 1979. 204 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/265486>. Acesso em: 17 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/265486

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GREGOLIN, Jose Angelo Rodrigues. Desenvolvimento e operação de um reator para a deposição de silicio puro a partir de triclorosilano. 1979. 204 f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/265486>. Acesso em: 17 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/265486

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