Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS

Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS

Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Stanislav A. Moshkalyov === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-08-05T15:04:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Nunes_AlcineiMoura_M.pdf: 4164375 bytes, checks...

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Bibliographic Details
Main Author: Nunes, Alcinei Moura
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 2005
Subjects:
Nitreto de silício
Bombardeio iônico
Anisotropia
Rugosidade de superfície
Silicon nitride
Ionic bombardment
Anisotropy
Surface roughness
Online Access:NUNES, Alcinei Moura. Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS. 2005. 151p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261834>. Acesso em: 5 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261834

Internet

NUNES, Alcinei Moura. Corrosão por plasma de filmes de silicio policristalino e nitreto de silicio para tecnologia MEMS e CMOS. 2005. 151p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261834>. Acesso em: 5 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261834

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