Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante
Orientador: Vitor Baranauskas === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-07-25T18:33:04Z (GMT). No. of bitstreams: 1 AlvaradoAlcocer_JuanCarlos_D.pdf: 6120849 bytes, checksum: 3095654638bfd5f26fceb61...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
[s.n.]
1999
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| Subjects: | |
| Online Access: | ALVARADO ALCOCER, Juan Carlos. Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante. 1999. 90p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260575>. Acesso em: 25 jul. 2018. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260575 |