Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante

Orientador: Vitor Baranauskas === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-07-25T18:33:04Z (GMT). No. of bitstreams: 1 AlvaradoAlcocer_JuanCarlos_D.pdf: 6120849 bytes, checksum: 3095654638bfd5f26fceb61...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Alvarado Alcocer, Juan Carlos
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1999
Subjects:
Diamante artificial
Simulação (Computadores)
Deposição química de vapor
Online Access:ALVARADO ALCOCER, Juan Carlos. Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante. 1999. 90p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260575>. Acesso em: 25 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260575

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ALVARADO ALCOCER, Juan Carlos. Contribuição a modelagem computacional de reatores de deposição quimica a partir da fase vapor visando o crescimento de diamante. 1999. 90p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260575>. Acesso em: 25 jul. 2018.
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