Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica

Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica

Orientador: Luiz Carlos Kretly === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-07-25T23:02:08Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Silva_NelmoCyriacoda_M.pdf: 4443890 bytes, checksum: e7445e48ea8055212013e5...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Silva, Nelmo Cyriaco da
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1999
Subjects:
Implantação iônica
Plasma (Gases ionizados)
Dispositivos optoeletrônicos
Microeletrônica
Online Access:SILVA, Nelmo Cyriaco da. Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica. 1999. 64f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259499>. Acesso em: 25 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259499

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SILVA, Nelmo Cyriaco da. Nova tecnologia de obtenção de feixe de ions de erbio com implantador de media corrente utilizado em microeletronica. 1999. 64f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259499>. Acesso em: 25 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259499

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