Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo
Orientador: Edmundo da Silva Braga === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas === Made available in DSpace on 2018-07-17T07:44:27Z (GMT). No. of bitstreams: 1 CostaFilho_CiceroFerreiraFernandes_M.pdf: 1992645 bytes, checksum: b9f016046fac6a5a7...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
[s.n.]
1985
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| Subjects: | |
| Online Access: | COSTA FILHO, Cicero Ferreira Fernandes. Contribuição ao estudo dos processos de corrosão de fotorresiste por plasma ionico e por ion reativo. 1985. 119f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/258908>. Acesso em: 17 jul. 2018. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/258908 |
| Summary: | Orientador: Edmundo da Silva Braga === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia de Campinas === Made available in DSpace on 2018-07-17T07:44:27Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1985 === Resumo: Para fabricaçao de circuitos e dispositivos VLSI Very Laige Scale of Integration (Muita Larga Escala de Integraçao), a tecnologia de corrosão de material por plasma desempenhou um papel fundamental. A despeito desse processo de corrosao já ser atual mente utilizado em linhas de produçao na indústria de semi-condutores, a pesquisa sobre os mecanismos físicos e químícos nele envolvidos encontra-se em plena efervescência.
Neste trabalho, apresentamos o projeto de uma câmara de reações por plasma iônico e por Ion reativo, caracterizamos o processo de corrosão de fotorresiste por ambos esses processos, estudamos o efeito de polarizações aplicados aos eletrodos sobre a taxa de corrosão do fotorresiste e investigamos a validez do emprego da microbalança como método de detecçao do ponto final. Em adição, com o intuito de melhor interpretarmos os resultados obtidos, efetuamos medidas da corrente que flui do eletrodo não conectado a fonte de RF para o terra e da tensão induzida no eletrodo conectado à fonte de RF em função da potência de RF, da pressão e de polarizações aplicadas aos eletrodos da câmara de reaçoes. No trabalho de caracterização, o ponto final das corrosões foi detectado por meio de espectroscopia ótica. === Abstract: Not informed. === Mestrado === Mestre em Engenharia Elétrica |
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