Formação de filmes finos de Al2O3 por anodização e seu uso em dispositivos com filmes de Poli(3-Hexiltiofeno)

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Full description

Bibliographic Details
Main Author: Silva, Marcelo Marques da [UNESP]
Other Authors: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual Paulista (UNESP) 2014
Subjects:
Oxido de aluminio
Filmes finos
Eletroquimica
Espectroscopia de impedancia
Aluminum oxide
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/99672

Internet

http://hdl.handle.net/11449/99672

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