Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)

Propriedades químicas e ópticas de filmes de carbono amorfo halogenados produzidos por deposição a vapor químico assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (DIIIP)

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Bibliographic Details
Main Author: Appolinario, Marcelo Borgatto [UNESP]
Other Authors: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual Paulista (UNESP) 2014
Subjects:
Filmes finos
Hidrocarbonetos
Deposição química de vapor
Plasma (Gases ionizados)
Thin films
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/94498

Internet

http://hdl.handle.net/11449/94498

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