Delineação de padrões na superfície da poliamida por processo de plasma

Delineação de padrões na superfície da poliamida por processo de plasma

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Bibliographic Details
Main Author: Hosokawa, Ricardo Shindi [UNESP]
Other Authors: Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Language:Portuguese
Published: Universidade Estadual Paulista (UNESP) 2017
Subjects:
HMDSO
Plasma
Padrões
Organosilicone
Molhabilidade
Patterns
Organosilicon
Wettability
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/147082

Internet

http://hdl.handle.net/11449/147082

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