Caracterização de filmes finos de TiOsub(2) obtidos por deposição química em fase vapor

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Full description

Bibliographic Details
Main Author: CARRIEL, RODRIGO C.
Other Authors: Orientador: Marina Fuser Pillis
Format: Others
Published: 2015
Subjects:
THIN FILMS
SILICON
TITANIUM OXIDES
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
X-RAY DIFFRACTION
SCANNING ELECTRON MICROSCOPY
CRYSTAL STRUCTURE
MORPHOLOGY
VOLTAMETRY
Online Access:http://repositorio.ipen.br:8080/xmlui/handle/123456789/23704

Internet

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