Abscheidung (CVD) und Charakterisierung W-basierter Diffusionsbarrieren für die Kupfermetallisierung
Die Arbeit beschreibt die Entwicklung von plasmaunterstützten CVD-Prozessen zur Abscheidung ultradünner (≤10 nm) wolframbasierter Diffusionsbarrieren für die Kupfermetallisierung in integrierten Schaltkreisen. Es wird ein PECVD-Prozess mit der Gaschemie WF<sub>6</sub>/N<s...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Format: | Doctoral Thesis |
| Language: | deu |
| Published: |
Universitätsbibliothek Chemnitz
2007
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200700341 http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200700341 http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/5352/data/Ecke_Promo.pdf http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/5352/20070034.txt |