Röntgenografische Charakterisierung von Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten
Mittels reaktivem Magnetron-Sputtern hergestellte Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten wurden mit den Methoden der Röntgendiffraktometrie und Röntgenreflektometrie charakterisiert. Es konnte gezeigt werden, dass die Wahl des Arbeitspunktes bei der Schichtabscheidung erheblichen Einfluss auf Kristallitor...
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Format: | Dissertation |
Language: | deu |
Published: |
Universitätsbibliothek Chemnitz
2006
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Online Access: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200600032 http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200600032 http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/5118/data/da_kaune.pdf http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/5118/20060003.txt |
Summary: | Mittels reaktivem Magnetron-Sputtern hergestellte Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten
wurden mit den Methoden der Röntgendiffraktometrie und Röntgenreflektometrie charakterisiert.
Es konnte gezeigt werden, dass die Wahl des Arbeitspunktes bei der Schichtabscheidung
erheblichen Einfluss auf Kristallitorientierung, Gitterkonstante und Größe der Schichtspannung hat.
Zusätzlich wurden mittels des Langford-Verfahrens Korngröße und Mikrospannungen bestimmt.
Im Rahmen der röntgenografischen Spannungsmessung zeigten sich nichtlineare Verläufe der
Dehnung über sin²Ψ, die mit dem Kornwechselwirkungsmodell nach Vook und Witt
erklärt werden. |
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