Röntgenografische Charakterisierung von Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten

Mittels reaktivem Magnetron-Sputtern hergestellte Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten wurden mit den Methoden der Röntgendiffraktometrie und Röntgenreflektometrie charakterisiert. Es konnte gezeigt werden, dass die Wahl des Arbeitspunktes bei der Schichtabscheidung erheblichen Einfluss auf Kristallitor...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Kaune, Gunar
Other Authors: TU Chemnitz, Fakultät für Naturwissenschaften
Format: Dissertation
Language:deu
Published: Universitätsbibliothek Chemnitz 2006
Subjects:
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200600032
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200600032
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/5118/data/da_kaune.pdf
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/5118/20060003.txt
Description
Summary:Mittels reaktivem Magnetron-Sputtern hergestellte Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten wurden mit den Methoden der Röntgendiffraktometrie und Röntgenreflektometrie charakterisiert. Es konnte gezeigt werden, dass die Wahl des Arbeitspunktes bei der Schichtabscheidung erheblichen Einfluss auf Kristallitorientierung, Gitterkonstante und Größe der Schichtspannung hat. Zusätzlich wurden mittels des Langford-Verfahrens Korngröße und Mikrospannungen bestimmt. Im Rahmen der röntgenografischen Spannungsmessung zeigten sich nichtlineare Verläufe der Dehnung über sin²Ψ, die mit dem Kornwechselwirkungsmodell nach Vook und Witt erklärt werden.