Glimmplasmaunterstützte Schichtabscheidung von Hartstoffen aus silicium- und bororganischen Verbindungen
Innerhalb der Arbeit wurden mit Hilfe eines DC-Glimmplasmas im Vakuumbereich zwischen 100 und 400 Pa auf kathodisch geschalteten, metallischen Substraten mittels silicium- und bororganischen Verbindungen Schichten abgeschieden. Unter den gewählten Bedingungen war eine Abscheidung von amorphen Hartst...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Doctoral Thesis |
| Language: | deu |
| Published: |
Universitätsbibliothek Chemnitz
2003
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200300581 http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:swb:ch1-200300581 http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/4679/data/diss.pdf http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/4679/20030058.txt |