Beiträge zur Technologieentwicklung für die Erzeugung von Airgap - Strukturen in Metallisierungssystemen in integrierten Schaltkreisen

Beiträge zur Technologieentwicklung für die Erzeugung von Airgap - Strukturen in Metallisierungssystemen in integrierten Schaltkreisen

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Die Arbeit beschreibt die Entwicklung und Evaluierung zweier neuartiger Technologien (Maske und Spacer) zur Erzeugung von Airgap-Strukturen in Mehrebenenmetallisierungen integrierter Schaltkreise. Ausgangspunkt der Arbeit bildet die Aufarbeitung der Thematik der low-k Materialien sowie der aus der L...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Schulze, Knut
Other Authors: Geßner, Thomas
Format: Doctoral Thesis
Language:German
Published: 2008
Subjects:
info:eu-repo/classification/ddc/620
ddc:620
Finite-Elemente-Methode
Flusssäure
Halbleitertechnologie
Low-k-Dielektrikum
Opferschicht
Spacer
Technologie
Verdrahtung
Air Gap
Airgap
Buffered HF
Damascene
Gepufferte HF
Hybride Integration
Leitbahnsystem
Low-k
Metallisierung
Signalverzögerung
Online Access:http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-200800661
https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A18912
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A18912/attachment/ATT-0/
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A18912/attachment/ATT-1/

Internet

http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:ch1-200800661
https://monarch.qucosa.de/id/qucosa%3A18912
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A18912/attachment/ATT-0/
https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A18912/attachment/ATT-1/

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