Photolithographie UV-profond d'oxoclusters métalliques : Des processus photochimiques aux applications en nanofabrication
Le but principal de ce travail de thèse est de proposer un matériau précurseur d'oxydes métalliques (ZrO2, TiO2, HfO2) compatible avec la technique de photolithographie interférentielle DUV. Des oxoclusters de métaux (MOC) de transitions obtenus par complexation d'un ligand organique et hy...
| Main Author: | |
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| Language: | fra |
| Published: |
Université de Haute Alsace - Mulhouse
2013
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01067489 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/01/06/74/89/PDF/2013MULH8376_these_STEHLIN.pdf |