Elaboration et caractérisation de couches ultra-minces de silicate de baryum en tant qu'oxyde de grille alternatif
La miniaturisation des dispositifs élémentaires de la technologie CMOS impose le remplacement de l'oxyde de silicium pour l'élaboration de l'oxyde de grille. Par l'identification des conditions de formation du silicate de baryum au contact direct du substrat de silicium, cette ét...
| Main Author: | |
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| Language: | FRE |
| Published: |
Université de Bourgogne
2008
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00359449 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/35/94/49/PDF/These_Thomas_GENEVES.pdf |