ETUDE PAR PHOTOEMISSION (XPS & XPD) D'HETEROSTRUCTURES D'OXYDES FONCTIONNELS EPITAXIES SUR SILICIUM

Cette thèse se situe dans un des axes principaux de l'INL qui a pour objectif de développer des procédés de fabrication de films minces d'oxydes monocristallins, épitaxiés sur silicium. Ces oxydes pourraient remplacer les oxydes de grille amorphes de type SiOxNy ou HfSixOyNz et répondre au...

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Bibliographic Details
Main Author: El Kazzi, Mario
Language:FRE
Published: Ecole Centrale de Lyon 2007
Subjects:
Online Access:http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00321458
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/32/14/58/PDF/These_Mario_EL-Kazzi.pdf

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