ETUDE PAR PHOTOEMISSION (XPS & XPD) D'HETEROSTRUCTURES D'OXYDES FONCTIONNELS EPITAXIES SUR SILICIUM
Cette thèse se situe dans un des axes principaux de l'INL qui a pour objectif de développer des procédés de fabrication de films minces d'oxydes monocristallins, épitaxiés sur silicium. Ces oxydes pourraient remplacer les oxydes de grille amorphes de type SiOxNy ou HfSixOyNz et répondre au...
Main Author: | |
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Language: | FRE |
Published: |
Ecole Centrale de Lyon
2007
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Subjects: | |
Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00321458 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/32/14/58/PDF/These_Mario_EL-Kazzi.pdf |