Conception, montage et caractérisation d'un interféromètre achromatique pour l'étude de la lithographie à immersion à 193nm
La miniaturisation est aujourd'hui, plus que jamais, devenue le maître mot en microélectronique.<br />En effet, les industriels poursuivent l'objectif, de plus en plus ambitieux, de diminuer les dimensions<br />critiques des dispositifs actuels afin d'en améliorer les perf...
| Main Author: | |
|---|---|
| Language: | FRE |
| Published: |
2006
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00147894 http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/14/78/94/PDF/ManuscritAnne-LaureCharley.pdf |