Etude de la fiabilité porteurs chauds et des<br />performances des technologies CMOS 0.13 μm - 2nm

Ces travaux sont consacrés à l'étude de la dégradation des transistors MOSFETs de la génération 130nm-2nm, soumis aux injections de porteurs énergétiques générés par les champs électriques élevés. D'une manière générale, les conséquences de ces mécanismes de dégradation se retrouvent dans...

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Bibliographic Details
Main Author: Di Gilio, Thierry
Language:FRE
Published: Université de Provence - Aix-Marseille I 2006
Subjects:
Online Access:http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00117263
http://tel.archives-ouvertes.fr/docs/00/12/77/78/PDF/these_tdg.pdf