Dépôt de couches minces par plasma haute densité à basse press influence de l'injection de silane sur la cinétique du dépôt et le propriétés de la silice.
Il s'agit de dépôt de silice utilisant le silane et l'oxygène dans un système plasma haute densité. L'influence des paramètres du procédé et du système d'injection du silane sur les propriétés des matériaux sont étudiés par ellipsométrie spectroscopique, spectroscopie infrarouge...
| Main Author: | |
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| Language: | ENG |
| Published: |
Ecole Polytechnique X
2008
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| Online Access: | http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00004404 http://pastel.archives-ouvertes.fr/docs/00/50/37/45/PDF/Botha.pdf |