Effets de la fréquence d'excitation sur l'uniformité du plasma dans les réacteurs capacitifs grande surface.

• Main Author: Hacala-Perret, Amélie
• Language: FRE
• Published: Ecole Polytechnique X 2004
• Subjects: [PHYS:PHYS:PHYS_PLASM-PH] Physics/Physics/Plasma Physics; Décharges capacitives; Vhf; Effet d'onde stationnaire; Effet de peau; Plasmas basse pression; Analyseurs d'énergie
• Online Access: http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00000837; http://pastel.archives-ouvertes.fr/docs/00/50/33/63/PDF/PERRETweb.pdf

Les décharges capacitives basse pression sont couramment utilisées dans l'industrie des écrans plats pour le dépôt de couches minces sur des substrats de plus en plus grande surface. L'augmentation de la fréquence d'excitation (typiquement de 13.56 MHz à 200 MHz) produit des sources denses avec des ions peu énergétiques conduisant à l'augmentation de la vitesse des procédés. Cependant, les modèles théoriques prévoient de fortes non-uniformités du dépôt de puissance dans la décharge lorsque la longueur d'onde d'excitation est comparable à la taille du réacteur. Nous avons réalisé des mesures d'uniformité du flux d'ions et de l'énergie des ions dans une décharge capacitive carrée grande surface excitée de 13.56 MHz à 81.36 MHz dans l'argon jusqu'à 200 mTorr. A haute fréquence, le flux d'ions est fortement non uniforme à cause de l'effet d'onde stationnaire. L'énergie des ions est uniforme dans les mêmes conditions. L'influence de la pression et du mélange de gaz est aussi investiguée.