Effets de la fréquence d'excitation sur l'uniformité du plasma dans les réacteurs capacitifs grande surface.
Les décharges capacitives basse pression sont couramment utilisées dans l'industrie des écrans plats pour le dépôt de couches minces sur des substrats de plus en plus grande surface. L'augmentation de la fréquence d'excitation (typiquement de 13.56 MHz à 200 MHz) produit des sources d...
| Main Author: | |
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| Language: | FRE |
| Published: |
Ecole Polytechnique X
2004
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| Online Access: | http://pastel.archives-ouvertes.fr/pastel-00000837 http://pastel.archives-ouvertes.fr/docs/00/50/33/63/PDF/PERRETweb.pdf |