FARKLI B+ İMPLANTASYON KOŞULLARI İÇİN RADFET’LERİN ELEKTRİKSEL KARAKTERİZASYONUNUN TCAD BENZETİM PROGRAMI İLE İNCELENMESİ
Bu çalışmada, RadFET’lerin kapı oksit tabakasına implante edilmiş B+ iyonlarının Vth üzerine etkisi, Silvaco TCAD benzetim programı ile incelenmiştir. 300 nm ve 400 nm kalınlıklarında kapı oksite sahip RadFET’ler, tüm üretim adımları TCAD’e tanıtılarak tasarlanmıştır. İmplantasyon öncesi ve sonrası...
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Bursa Uludag University
2017-08-01
|
| Series: | Uludağ University Journal of The Faculty of Engineering |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://dergipark.org.tr/tr/pub/uumfd/issue/30563/335425 |